

產(chǎn)品信息
特點(diǎn)
● 可在紫外和可見(250至800nm)波長(zhǎng)區(qū)域中測(cè)量橢圓參數(shù)
● 可分析納米級(jí)多層薄膜的厚度
● 可以通過(guò)超過(guò)400ch的多通道光譜快速測(cè)量Ellipso光譜
● 通過(guò)可變反射角測(cè)量,可詳細(xì)分析薄膜
● 通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和追加菜單注冊(cè)功能,增強(qiáng)操作便利性
● 通過(guò)層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測(cè)量可控制膜厚度/膜質(zhì)量
測(cè)量項(xiàng)目
測(cè)量橢圓參數(shù)(TANψ,COSΔ)
光學(xué)常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析
薄膜厚度分析
用途
半導(dǎo)體晶圓
柵氧化膜,氮化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN
光學(xué)常數(shù)(波長(zhǎng)色散)
復(fù)合半導(dǎo)體
AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅
FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO、MgO等
各種新材料
DLC(類金剛石碳)、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜
光學(xué)薄膜
TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜
光刻領(lǐng)域
g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長(zhǎng)的n、k評(píng)估
原理
包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對(duì)于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測(cè)量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
產(chǎn)品規(guī)格
型號(hào) | FE-5000 |
|---|---|
樣品尺寸 | 200x200毫米 |
入射(反射)的角度范圍 | 45至90° |
入射點(diǎn)直徑*2 | 關(guān)于φ1.2sup*3 |
測(cè)定波長(zhǎng)范圍*5 | 250至800納米 |
平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方式 | 手動(dòng)/自動(dòng) |
裝載機(jī)兼容 | 可 |
尺寸,重量 | 1300(W)×900(D)×1750(H)mm 約350公斤*7 |
*1可以驅(qū)動(dòng)偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。
*2取決于短軸角度。
*3對(duì)應(yīng)微小點(diǎn)(可選)
*4它是使用VLSI標(biāo)準(zhǔn)SiO2膜(100nm)時(shí)的值。
*5可以在此波長(zhǎng)范圍內(nèi)進(jìn)行選擇。
*6光源因測(cè)量波長(zhǎng)而異。
*7選擇自動(dòng)平臺(tái)時(shí)的值。